Semua produk
-
DavidPerusahaan yang baik dengan layanan yang baik dan kualitas tinggi dan reputasi tinggi. Salah satu pemasok terpercaya kami, barang dikirim tepat waktu dan paket bagus. -
John MorrisPakar material, pemrosesan yang ketat, penemuan masalah yang tepat waktu dalam gambar desain dan komunikasi dengan kami, layanan yang bijaksana, harga yang wajar dan kualitas yang baik, saya yakin kami akan memiliki lebih banyak kerja sama. -
jorgeTerima kasih atas layanan purna jual Anda yang baik. Keahlian yang sangat baik dan dukungan teknis banyak membantu saya. -
petramelalui komunikasi yang sangat baik semua masalah terpecahkan, puas dengan pembelian saya -
Adrian HayterBarang yang dibeli kali ini sangat memuaskan, kualitasnya sangat bagus, dan perawatan permukaannya sangat bagus. Saya percaya kami akan memesan pesanan berikutnya segera.
Kontak Person :
Nicole
Nomor telepon :
13186382597
ada apa :
+8613186382597
10.2g/Cm3 Produk Molibdenum Sifat Kimia Target Molibdenum Pelat Molibdenum Target Cakram Molibdenum Kemurnian Tinggi
Hubungi saya untuk sampel gratis dan kupon.
ada apa:0086 18588475571
Wechat wechat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Jika Anda memiliki masalah, kami menyediakan bantuan online 24 jam.
xDetail produk
| nama | Sifat Kimia Dan Aplikasi Sasaran Molybdenum | bahan | Paduan molibdenum dan molibdenum |
|---|---|---|---|
| Kepadatan | 10,2g/cm3 | Kemurnian | 99,95% |
| Permukaan | Dipoles | MOQ | 1kg |
| Menyoroti | 10.2g/cm3 Produk Molibdenum,Produk Molibdenum Dipoles,Target Molibdenum Dipoles |
||
Deskripsi Produk
Sifat Kimia Dan Aplikasi Target Molibdenum
1. Sifat Kimia Target Molibdenum:
Sifat kimia target molibdenum relatif stabil.Pada suhu kamar, ia stabil di udara atau air, tetapi sedikit oksidasi terjadi ketika suhu mencapai 400 °C, dan oksidasi hebat terjadi ketika suhu mencapai 600 °C untuk membentuk MoO3.Asam klorida, asam fluorida, asam nitrat encer, dan larutan basa tidak bereaksi dengan target, tetapi dapat dilarutkan dalam asam nitrat, aqua regia, atau larutan asam sulfat panas.
| Sedang | Kondisi eksperimental | Reaksi |
| Air | Tidak menimbulkan korosi | |
| HF | Panas dingin | Tidak menimbulkan korosi |
| HF+H2SO4 | Dingin | Tidak menimbulkan korosi |
| Panas | sedikit korosi | |
| HF+Aqua regia | Dingin | sedikit korosi |
| Panas | Korosi dengan cepat | |
| HF+HNO3 | Panas dingin | Korosi dengan cepat |
| Amonia | Tidak menimbulkan korosi | |
| Alkali cair | Di atmosfer | sedikit korosi |
| Agen pengoksidasi sepertiKNO3/KNO/Kcl3/PbO2 | Korosi dengan cepat | |
| Boron | pada suhu tinggi | menghasilkan borida |
| C | Di atas 1100℃ | membentuk karbida |
| Ya | Di atas 1100℃ | menghasilkan silisida |
| P | ke suhu maksimum | Tidak menimbulkan korosi |
| S | Di atas 440℃ | membentuk sulfida |
| yodium | Di atas 790℃ | Tidak menimbulkan korosi |
| Brom | Di atas 840℃ | Tidak menimbulkan korosi |
| Klorin | Di atas 230℃ | korosi yang kuat |
| Fluor | Suhu kamar | korosi yang kuat |
| Udara dan oksigen | 400℃ | mulai teroksidasi |
| 600℃ | oksidasi yang kuat | |
| Di atas 700℃ | sublimasi MoO3 | |
| Hidrogen dan gas mulia | ke suhu maksimum | tidak merespon |
| BERSAMA | Di atas 1400℃ | membentuk karbida |
| CO2 | 1200℃ | oksidasi |
| Hidrokarbon | 1100℃ | membentuk karbida |
| Al,Ni,Fe,Co,Sb | meleleh | korosi yang kuat |
| Zn | meleleh | sedikit korosi |
| Dua | meleleh | Sangat korosif |
| Kaca | meleleh | Sangat korosif |
| Oksida tahan apiAl2O3,ZrO2,BeO,MgO,ThO2 | 1700℃ | Tidak menimbulkan korosi |
2. Penerapan Target Molibdenum:
1.) Penggunaan target sputtering molibdenum pada layar panel datar.
Dalam industri elektronik, penggunaan target sputtering molibdenum terutama mencakup layar panel datar, elektroda sel surya film tipis dan bahan kabel, serta bahan penghalang semikonduktor.Bahan-bahan ini berbahan dasar molibdenum dan memiliki titik leleh tinggi, konduktivitas listrik tinggi, impedansi spesifik rendah, ketahanan korosif yang baik, dan kinerja lingkungan yang baik.Molibdenum memiliki keunggulan hanya setengah dari ketahanan spesifik dan tekanan film kromium, dan tidak memiliki masalah pencemaran lingkungan, sehingga telah menjadi salah satu bahan pilihan untuk target sputtering pada layar panel datar.Selain itu, penggunaan molibdenum dalam komponen layar kristal cair dapat meningkatkan kinerja layar kristal cair dalam hal kecerahan, kontras, warna, dan umur panjang.
Dalam bisnis layar panel datar, TFT-LCD adalah salah satu aplikasi komersial utama untuk target sputtering molibdenum.Menurut riset pasar, pengembangan LCD akan mencapai puncaknya di tahun-tahun mendatang, dengan tingkat pertumbuhan tahunan rata-rata sekitar 30%.Dengan kemajuan LCD, permintaan target sputtering LCD juga akan meningkat dengan cepat, sekitar 20% setiap tahun.
2.) Penerapan Target Sputtering Molibdenum pada Sel Fotovoltaik Surya Film Tipis.
Selain industri layar panel datar, dengan berkembangnya industri energi baru, penggunaan target sputtering molibdenum pada sel fotovoltaik surya film tipis juga meningkat.
Sel surya CIGS adalah jenis sel surya penting yang digunakan untuk mengubah sinar matahari menjadi listrik.Empat elemen membentuk CIGS: selenium (Se), gallium (Ga), indium (In), dan tembaga (Cu) (Se). Nama lengkapnya adalah sel surya film tipis tembaga indium gallium selenide.Penyerapan cahaya yang kuat, stabilitas pembangkitan listrik yang baik, efisiensi konversi yang tinggi, waktu pembangkitan listrik di siang hari yang panjang, pembangkitan listrik yang besar, biaya produksi yang rendah, dan manfaat lainnya semuanya terkait dengan CIGS.dan periode pemulihan energi yang singkat.
Target molibdenum terutama dibentuk dengan sputtering untuk membentuk lapisan elektroda baterai film tipis CIGS.Molibdenum terletak di dasar sel surya.Nukleasi, perkembangan, dan bentuk kristal film tipis CIGS sangat dipengaruhi oleh kontak ini, yang berfungsi sebagai kontak belakang sel surya.
Apakah Anda ingin tahu lebih banyak tentang produk kami?
Rekomendasi Produk