Semua produk
-
DavidPerusahaan yang baik dengan layanan yang baik dan kualitas tinggi dan reputasi tinggi. Salah satu pemasok terpercaya kami, barang dikirim tepat waktu dan paket bagus. -
John MorrisPakar material, pemrosesan yang ketat, penemuan masalah yang tepat waktu dalam gambar desain dan komunikasi dengan kami, layanan yang bijaksana, harga yang wajar dan kualitas yang baik, saya yakin kami akan memiliki lebih banyak kerja sama. -
jorgeTerima kasih atas layanan purna jual Anda yang baik. Keahlian yang sangat baik dan dukungan teknis banyak membantu saya. -
petramelalui komunikasi yang sangat baik semua masalah terpecahkan, puas dengan pembelian saya -
Adrian HayterBarang yang dibeli kali ini sangat memuaskan, kualitasnya sangat bagus, dan perawatan permukaannya sangat bagus. Saya percaya kami akan memesan pesanan berikutnya segera.
Kontak Person :
Nicole
Nomor telepon :
13186382597
ada apa :
+8613186382597
RO5200 Ta1 Tantalum Rotating Target Tantalum Tube Target 100mm Untuk CVD PVD
Hubungi saya untuk sampel gratis dan kupon.
ada apa:0086 18588475571
Wechat wechat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Jika Anda memiliki masalah, kami menyediakan bantuan online 24 jam.
xDetail produk
| nama | Target Putar Tantalum | Kelas | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
|---|---|---|---|
| Kepadatan | 16,68 gram/cm3 | Berat atom | 180.94788 |
| Metode penyemprotan | DC | Konduktivitas termal | 57 W/mK |
| Menyoroti | CVD Tantalum Rotating Target,Ta1 Tantalum Target,Tabung Tantalum Target 100mm |
||
Deskripsi Produk
Informasi produk:
Target tabung tantalum adalah target tantalum tubular, juga dikenal sebagai target berputar tantalum.
| Nama | Tantalum Rotating Target Tantalum Tube Target |
| Kemurnian | ≥ 99,95% |
| Kelas | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| Kepadatan | 160,68 g/cm3 |
| Berat atom | 180.94788 |
| Metode penyemprotan | DC |
| Konduktivitas termal | 57 W/m.K |
| Koefisien ekspansi termal | 6.3 x 10-6 /K |
| Ukuran | OD: 20~300mm Ketebalan dinding: ≥ 0,5mm |
Penerapan Ta Rotating Target:
Target tabung tantalum adalah bahan baku tantalum kemurnian tinggi untuk deposisi sputter, yang dapat digunakan dalam semikonduktor,Pengendapan uap kimia (CVD) dan pengendapan uap fisik (PVD) tampilan dan aplikasi optikRinciannya adalah sebagai berikut:
- Untuk semikonduktor;
-Tampilan Deposisi Uap Kimia (CVD);
-Tampilan Deposisi Uap Fisik (PVD);
- Aplikasi optik.
Catatan:Kami menyediakan layanan yang disesuaikan. Jika Anda tidak dapat menemukan target yang Anda inginkan, silakan hubungi kami langsung. Kami dapat menyesuaikan sesuai dengan kebutuhan Anda.
Rekomendasi Produk